Metode Chemical Solution Deposition
(CSD)
Chemical
Solution Deposition (CSD) adalah metode fabrikasi lapisan
tipis menggunakan larutan precursor.
Prinsip umum dari metode ini adalah untuk mendapatkan larutan yang homogen yang
nantinya ditumbuhkan di atas substrat. Metode Chemical Solution Deposition (CSD) merupakan cara pembuatan lapisan
tipis dengan pendeposisian larutan diatas substrat, kemudian dipreparasi dengan
spin coater pada kecepatan putar tertentu.
Tahap awal sebelum deposisi lapisan yaitu pembuatan larutan. Pada
proses pembuatan
larutan,
larutan sampel yang akan digunakan harus homogen.
Homogen atau tidaknya larutan akan mempengaruhi hasil lapisan tipis yang dibuat, biasanya
lapisan akan menjadi getas dan akan berpengaruh pada karakterisasi. Pada
pembuatan larutan ini ada parameter yang harus diperhatikan, yaitu viskositas
larutan (berpengaruh pada Molaritas larutan). Larutan yang digunakan tidak
boleh terlalu kental, karena pada saat pemutaran pada proses Spin Coating akan
menyebabkan larutan menggumpal di permukaan substrat, sehingga lapisan akan
menjadi getas.
Selanjutnya yaitu proses spin coating, pyrolisis dan anneling. Spin coating dilakukan dengan cara deposisi bahan larutan kimia diatas substrat. Kemudian diputar dengan kecepatan tertentu. Kecepatan putar pada spin coating berpengaruh terhadap kualitas kristal dari bahan. Peningkatan kecepatan putar (rpm) pada spin coating pada umumnya mengakibatkan degradasi pada pembentukan lapisan tipis. Kelebihan dari metode CSD yaitu murah, dapat membuat sample dengan waktu yang tidak terlalu lama, homogenitas dan tidak membutuhkan temperatur tinggi untuk pembuatan.
·
Prosses Spin coating
Pembuatan
lapisan terdapat dua metode yaitu spin coating dan dip coating. Namun spin coating lebih
sering digunakan dibandingkan dengan dip coating. proses dari spin coating secara
efektif terbagi menjadi tiga tahap yaitu : deposisi dan spin up, spin off dan
pengeringan film (film drying).
Langkah pertama yaitu meneteskan substrat dengan larutan pelapis kemudian
substrat tersebut diputar dengan kecepatan tinggi. Putaran substrat menghasilkan
gaya sentrifugal yang mengakibatkan larutan bergerak keluar sehingga substrat
menempel pada substrat pembentuk lapisan.
Ketika substrat pada kecepatan konstan dicirika dengan penipisan pada lapisan secara perlahan sehingga didapatkan ketebalan lapisan yang homogen. Ketebalan sifat lainya tergantung pada sifat cairan(viskositas, kecepatan pengeringan dan molaritas). Serta parameter-parameter yang dipilih pada proses spin coating seperti kecepatan putar dan tingkat kevakuman.
Proses
pyrolisis dan anneling
Ketika
substrat telah dideposisikan dengan menggunakan spin coating maka
larutan tersebut akan mengalami proses pyrolisis. Dengan memanaskan sample pada
suhu dimana zat pelarut yang terkandung dalam sampel akan menguap serta tujuan
lain yaitu pengkristalisasian awal ke fase pervoskite. Setelah dilakukan pyrolisis, sample
akan dimasukan ke alat furnace untuk dilakukan proses anneling. Sampel
akan dipanaskan pada suhu diatas kristalisaisnya, kemudian ditahan suhunya
dengan waktu tertentu kemudian didinginkan secara perlahan. anneling biasanya
mempunyai fungsi untuk membuat sifat material menjadi lentur, menghilangkan
tegangan internal dan memperbaiki struktur material.

Komentar
Posting Komentar