Metode Chemical Solution Deposition (CSD) Chemical Solution Deposition (CSD) adalah metode fabrikasi lapisan tipis menggunakan larutan precursor . Prinsip umum dari metode ini adalah untuk mendapatkan larutan yang homogen yang nantinya ditumbuhkan di atas substrat. Metode Chemical Solution Deposition (CSD) merupakan cara pembuatan lapisan tipis dengan pendeposisian larutan diatas substrat, kemudian dipreparasi dengan spin coater pada kecepatan putar tertentu. Tahap awal sebelum deposisi lapisan yaitu pembuatan larutan. Pada proses pembuatan larutan , larutan sampel yang akan digunakan harus homogen . Homogen atau tidaknya larutan akan mempengaruhi hasil lapisan tipis yang dibuat, biasanya lapisan akan menjadi getas dan akan berpengaruh pada karakterisasi. Pada pembuatan larutan ini ada parameter yang harus diperhatikan, yaitu viskositas larutan (berpengaruh pada Molaritas larutan). Larutan yang digunakan tidak boleh terlalu kental, karena pada saat pemutaran pad...